半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
业务经验
该中小中小企业坐落江苏省郑州市,其主要从事于高半导体技术集成电路芯片的封装类型软件测试,日废气量废发电量约200吨。基于生孩子方式中应用四种物理药品,焦化废水组成成分繁杂,包含的高氧浓度铜、镍等天价属并且 环氧树酯树酯、光刻胶等有机肥料危害物。中小中小企业改变正确处理服务设施不可做到公布废气量规范,急用提高提升。
污水成分表及原因
化学镍废液
:收入于心片引脚镀膜流程,包含的铜、镍、锡等高价属阴离子,pH值冲击大。
有机质生产废水
:关键原于封裝胶固有、光刻生产技术,有环氧防锈漆光敏树脂、异丙醇、甲苯等可挥发萃取剂。
酸碱性废污水
:带来于晶圆冲洗和蚀刻生产工艺,内含氢钝化钠、磷酸、氢钝化钠等。
工作制作工艺方案
预补救时期
强酸强碱中合
:经由投加装置上下调整pH至6-9,防止后期办理设施设备蚀化。
混凝土水解
:加药PAC(配位聚氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),清掉浮窗物和区域血本属。
内在处里过程
精致防氧化
:用到Fenton生化试剂(H₂O₂+Fe²⁺)光降解难光降解巧妙物,COD去掉率达70%以上内容。
膜过虑
:反融于膜(UF)+反融于(RO)结合工艺设计,进第一步公款私存血本属和融掉性有机质物。
深层正确处理步骤
阳离子互转
:专争对铜、镍铁离子,保持冒水高价属水分含量低过0.5mg/L。
生物炭吸咐
:当做终究基本保障,删去剩余的氢化物发生器生物碳物。
结果英文作用
经工作后,水流水源实现《智能工业化的水生态破坏物尾气排放规则规则》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,造纸废水处理率优化至60%,每季度减少冲水料工费约80亿元。